超純物質

如微電子、半導體工業，要製備高性能半導體器件或超大規模集成電路器件，要求提供純度非常高的金屬或元素，如鍺、銦、鎵、硅，純度達99.999％以上，作為半導體材料；製備大規模集成電路，要求有超純氣體、超純水和其他化學品。使用的超純氣體達多種，純度達99.999 9％以上，每升氣體中粒徑大於0.5微米的塵粒數應少於3個。

不同的產品要求的氣體不同。如氬–氮混合氣用於電光源中鎢絲的還原；氙–氖或氬–氦混合氣用於霓虹燈充氣。用於芯片加工保護、摻雜、刻蝕、離子注入等工序的氣體或混合物達300多個品種。隨着刻畫芯片的線條寬度愈窄，要求藥品的純度愈高。制集成度為1兆巴的集成電路，允許水中微粒的粒徑小於0.1微米。在原子能工業中，核燃料、反應堆的核材料要求純度也很高，其中含吸收中子的材料的濃度也很低。如作為核燃料棒包殼的金屬鋯，含鉿的濃度應很低。

對生物的基因工程產品，特別是醫療用酶和藥品，要求達到色譜純或電泳純，即利用色譜法或電泳進行分析只能出現單個峯。對注射用的抗生素要求不含有熱原物質，它是一種分子量很高的糖蛋白，雖然含量少到用色譜也分析不出來，但能使人發燒併發生危險。為了製備超純物質，多年來發展了許多化工高技術。

如製備超純硅，從20世紀50年代發展了區域熔融法，至今還在採用。生產超純氣體、水和藥劑，多采用吸附、吸收、低温精餾、膜過濾等單元操作，以及光分解、催化分解等反應過程。隨着高科技的發展，對超純物質將提出更多、更高的要求，有待化工發展更新的技術去滿足。 ^[1]