超分辨光刻裝備項目

國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”2018年11月29日通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的芯片 ^[1]  。