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被動侵位

被動侵位（passive emplacement）是指在一個由構造作用導致體積膨脹，而構造體積擴張速率又大於岩漿浮力擠壓應變速率時，由於岩漿自然浮力上升速度的下降及自由表面的壓力釋放，岩漿被動地沿着擴張部分向上或周邊活動產生的侵位過程。包括頂蝕、破火山口沉陷、斷裂擴張等。

被動侵位形成原因

被動侵位作用包括巖牆擴展作用、頂蝕作用和火山口沉陷作用，岩漿是沿先存斷裂或構造缺陷，或是在區域性伸展作用下被動式侵位的。

深部岩漿沿着斷裂上升至地表淺部，在岩漿上升過程中岩漿運移的斷裂或通道不斷擴展、加寬，上升岩漿在淺部聚集形成大規模深成岩體。

(1)平面形狀為不規則狀；

(2)一般沒有內部構造；

(3)在侵位過程中圍巖的作用使被動的，侵人作用以前的圍巖在接觸面附近並未被擾動；

(4)接觸面彎曲，往往與圍巖互相穿插；

(5)在巖體邊緣常見有一些小規模頂蝕作用。

巖牆擴展機制是大陸伸展構造環境中岩漿上升侵位的重要機制。岩漿沿着由應力各向異性產生的張性斷裂上升。張性斷裂切割深度可以很大（達40km），並達到深部岩漿房。

由熱的岩漿在周圍引起的熱至爆裂及岩漿的裂塊下沉的同時向裂隙中的侵入作用，其發育常常侷限於不整合侵入岩體的邊緣帶附近。

頂蝕作用形成的巖體，在內接觸帶常有不規則狀、稜角狀且規模不等的捕擄體，捕擄體與岩漿之間的反應引起同化和混染現象。頂蝕巖體與圍巖的接觸面常常呈凹凸不平狀，一般不發育由侵位產生的定向組構（朱志澄、宋鴻林，1990）。

這是基性深成岩體的典型侵位機制，指岩漿房頂蓋塌陷而形成環狀或鍋狀沉陷的岩漿侵位機制。巖體受伸展環境中的張性斷裂控制，基性岩漿沿斷裂上升定位於斷裂的潛在空位中，基性岩漿冷卻後形成環狀斷裂將巖體分割成環狀斷塊。

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