薄膜物理與技術

薄膜物理與薄膜技術均是正在發展的學科與技術,有關薄膜的性質,薄膜形成機理的某些內容還處於探討中,薄膜技術也在不斷髮展與完善之中;因此,《薄膜物理與技術》只能着重介紹薄膜物理與薄膜技術的基本內容,不可能對這兩大部分的廣闊而豐富的內容作全面而詳盡的論述。 《薄膜物理與技術》為電子材料與元器件專業本科專業基礎教材,也可供物理電子技術、半導體物理與器件、應用物理、敏感材料與傳感器等專業的本科生和研究生,以及從事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技術和電子材料與元器件、混合微電子技術等廠所的工程技術人員使用和參考。

第一章 真空技術基礎

1-1 真空的基本知識

1-2 稀薄氣體的基本性質

1-3 真空的獲得

1-4 真空的測量

第二章 真空蒸發鍍膜法

2-1 真空蒸發原理

2-2 蒸發源的蒸發特性及膜厚分佈

2-3 蒸發源的類型

2-4 合金及化合物的蒸發

2-5 膜厚和澱積速率的測量與監控

第三章 濺射鍍膜

3-1 濺射鍍膜的特點

3-2 濺射的基本原理

3-3 濺射鍍膜類型