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蒸發鍍膜

鎖定
蒸發鍍膜常稱真空鍍膜,其特點是在真空條件下,材料蒸發並在玻璃表面上凝結成膜,再經高温熱處理後,在玻璃表面形成附着力很強的膜層。有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作,因為限量以上的殘餘氣體會影響膜的成分和性質。為了實現鍍膜工藝,要求殘餘氣體的壓力為0.1~1Pa。 [1] 
中文名
蒸發鍍膜
別    名
真空鍍膜
蒸發技術分為間歇蒸發與連續蒸發、直接電阻加熱蒸發和間接電阻加熱蒸發,連續生產與製造厚膜時採用連續蒸發加熱。一個入射的蒸氣原子在表面的滯留時間中,原子不斷地擴散形成不均勻的成核作用,隨着蒸氣原子不斷地衝擊表面,各個核都在增長,相鄰各核開始接觸進入聚結階段,直到形成連續膜。也可把上述過程劃分為小島階段、網絡階段、孔階段及連續膜階段。
參考資料
  • 1.    張巨松.無機非金屬材料工藝學:哈爾濱工業大學出版社,2010