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膜厚測試儀
鎖定
膜厚測試儀,分為手持式和台式二種,手持式又有磁感應鍍層測厚儀,電渦流鍍層測厚儀,熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應原理時,利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小,來表示其覆層厚度。
台式的熒光X射線膜厚測試儀,是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產生低能量的光子,俗稱為二次熒光,,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值。
- 中文名
- 膜厚測試儀
- 外文名
- Film thickness tester
- 分 類
- 手持式和台式
- 原 理
- 磁感應原理
- 用 途
- 測定覆層厚度
膜厚測試儀磁感應測量
採用磁感應原理時,利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小,來表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀,原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當軟芯上繞着線圈的測頭放在被測樣本上時,儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品採用指針式表頭,測量感應電動勢的大小,儀器將該信號放大後來指示覆層厚度。電路設計引入穩頻、鎖相、温度補償等地新技術,利用磁阻來調製測量信號。還採用專利設計的集成電路,引入微機,使測量精度和重現性有了大幅度的提高(幾乎達一個數量級)。現代的磁感應測厚儀,分辨率達到0.1um,允許誤差達1%,量程達10mm。
膜厚測試儀電渦流測量
高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場,測頭靠近導體時,就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這個反饋作用量表徵了測頭與導電基體之間距離的大小,也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由於這類測頭專門測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測頭。非磁性測頭採用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應原理比較,主要區別是測頭不同,信號的頻率不同,信號的大小、標度關係不同。與磁感應測厚儀一樣,渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um,允許誤差1%,量程10mm的高水平。
採用電渦流原理的測厚儀,原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量,如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁製品表面的漆,塑料塗層及陽極氧化膜。覆層材料有一定的導電性,通過校準同樣也可測量,但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍(如銅上鍍鉻)。雖然鋼鐵基體亦為導電體,但這類任務還是採用磁性原理測量較為合適
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膜厚測試儀XRD
具體地説,比如用不同的裝置測定食鹽(氯化鈉=NaCl)時,從螢光X射線裝置得到的信息為此物質由鈉(Na)和氯(Cl)構成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質由氯化鈉(NaCl)的結晶構成。單純地看也許會認為能知道結晶狀態的X射線衍射裝置(XRD為好,但當測定含多種化合物的物質時只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息後才能進行定性
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膜厚測試儀XRF
X射線的能量穿過金屬鍍層的同時,金屬元素其電子會反射其穩定的能量波譜。通過這樣的原理,我們設計出:膜厚測試儀也可稱為膜厚測量儀,又稱金屬塗鍍層厚度測量儀,其不同之處為其即是薄膜厚度測試儀,也是薄膜表層金屬元素分析儀,因響應全球環保工藝準則,故市場上最普遍使用的都是無損薄膜X射線熒光鍍層測厚儀。
X射線和紫外線與紅外線一樣是一種電磁波。可視光線的波長為0.000001 m (1μm)左右。
對某物質進行X射線照射時,可以觀測到主要以下3種X射線。
(1) 螢光X射線
(2) 散亂X射線
(3) 透過X射線