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聚焦離子束系統
鎖定
聚焦離子束系統是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的核儀器，於2002年1月1日啓用。
- 中文名
- 聚焦離子束系統
- 產 地
- 美國
- 學科領域
- 物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
- 啓用日期
- 2002年1月1日
- 所屬類別
- 核儀器 > 離子束分析儀器
聚焦離子束系統技術指標
電子束分辨率（Resolution）：3 nm@1 KV，3 nm @30 KV；離子束分辨率：7 nm@30 KV；沉積金屬鉑（Pt）；金屬和非金屬增強刻蝕。 沉積金屬線條最細優於40nm；刻蝕線寬最細優於20nm。 儀器主要功能（Functions）：用離子束刻蝕、沉積（金屬）、亞微米級線條和圖形；電子束曝光技術進行微結構加工；用電子束對加工過程進行實時觀測。
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聚焦離子束系統主要功能
- 參考資料
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- 1. 聚焦離子束系統 ．國家科技基礎條件平台中心[引用日期2020-12-10]
