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綜合測量系統
鎖定
綜合測量系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2009年5月4日啓用。
- 中文名
- 綜合測量系統
- 產 地
- 美國
- 學科領域
- 物理學
- 啓用日期
- 2009年5月4日
- 所屬類別
- 分析儀器 > 光譜儀器 > 熒光分光光度計
綜合測量系統技術指標
配備有He3製冷機，温度範圍為0.4K-400K，磁場範圍為-140000Oe至+140000Oe，1 T以內的磁場分辨率為 0.02 mT，控温模式為連續低温控制和温度掃描模式温度穩定性 ±0.2% T < 10K；±0.02% T > 10K。
[1]
綜合測量系統主要功能
可以提供極低温高精度的電學測量，包括基系統和He3製冷機的直流電輸運選件（DC Resistivity）；高精度、高度自動化、極低温的比熱測量（Heat Capacity）；高靈敏度的熱輸運測量（TTO）， 獨特的設計使得PPMS配合該選件, 能夠進行以下參數的測量:AC電輸運、熱導率、塞貝克係數、品質因子等測量。
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- 參考資料
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- 1. 綜合測量系統 ．國家科技基礎條件平台中心[引用日期2021-01-04]
