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納米壓印

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納米壓印是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2015年06月30日啓用。
中文名
納米壓印
產    地
瑞典
學科領域
工程與技術科學基礎學科
啓用日期
2015年06月30日
所屬類別
工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體集成電路工藝實驗設備

納米壓印技術指標

最高温度200℃;最大氣壓達70bar;UV波長200nm-1000nm;樣品最大尺寸6英寸;樣品+模具總厚度需<2mm;最小可加工尺寸50nm,殘膠<20nm,深寬比小於5。 [1] 

納米壓印主要功能

微納米尺度圖形結構的快速複製和轉移;具有高分辨率、高產量、低成本的優點;可輕易製作3D立體結構之微影刻蝕技術;高分子材料直接壓印成形,避免長時間或大範圍之刻蝕步驟;可簡單的製作出高深寬比的結構。此設備還採用了單面硬襯墊氣壓軟壓技術、IPS技術、STU技術,增加壓力均勻性,延長模板壽命延長,提升圖形分辨率。相關應用包括量子磁碟、生物傳感器微陣列、微流體通道、光子晶體、GaAs量子元件等。 [1] 
參考資料