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等離子刻蝕

鎖定
等離子刻蝕，一種採用等離子的幹法蝕刻技術。通常使用較高壓力及較小的射頻功率，芯片表面層原子或分子與等離子氣氛中的活性原子接觸併發生反應，形成氣態生成物而離開晶面造成蝕刻。 [1] 
中文名
等離子刻蝕
定    義
一種採用等離子的幹法蝕刻技術
參考資料