空間像

圖 1是一個仿真計算的結果。高分辨的掩模版(如用於 NA＞1.0 的 193i 曝光的掩模)製備完成後，必須做缺陷檢查。有些缺陷對掩模曝光性能的影響很難直觀地判斷，必須藉助於空間像測量系統(aerial image measurement system， AIMS)。 AIMS 可以把掩模缺陷區域的像投影在 CCD 相機上，使得工程師能直觀地看到缺陷對成像的影響。空間像顯微鏡的結構如圖 2所示 ^[1-2]  。