-
空氣隔離
鎖定
- 中文名
- 空氣隔離
- 外文名
- air-isolation
- 介 質
- 空氣
- 目 的
- 實現電路各元器件間電絕緣
- 學 科
- 電子工程
- 缺 點
- 工藝比較複雜
空氣隔離簡介
在製作半導體集成電路中採用空氣隔離方法時,通常就是將電路各元器間原需製作隔離槽的那部分硅片全腐蝕掉,使這些元器件形成相互隔離的“小島”。 “小島”之間的互連和它們之間的機械支託則通過樑式引線來完成。
空氣隔離工藝流程
(1)用平面工藝製造所要求的電子元件、器件。
(2)形成玻璃層:用外延法、濺射法或塗復法等方法在硅片表面生成一厚度為20微米左右的均勻玻璃層。太薄或太厚對製造工藝都要帶來困難。
(3)在玻璃層上刻引線孔,按連線要求用通常的蒸發、反刻方法完成金屬佈線。
空氣隔離優點
空氣隔離法的優點是:
1)使MOS電路的分佈電容比一般MOS電路小。
2)消除了在硅表面上易於產生的反型溝道,減少了源一漏之間的漏電流。
3)因在藍寶石上蒸發鋁膜相連,因而消除了因二氧化硅裂縫造成的鋁與硅基底的短路。