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空心陰極離子鍍技術

鎖定
空心陰極離子鍍技術屬於弧光放電範時,通過烘烤加熱工件及氬離子轟擊淨化。工件經清洗人爐後抽真空。當真空度達到6X10-3Pa後,開啓烘烤加熱電源,對工件進行加熱。達到一定温度後,從鉭管通人氬氣,真空度降至2~3Pa,接通工件偏壓電源,電壓調至500~ 1000V。此時產生輝光放電,獲得氬離子。氬離子在負偏壓電場的作用下,對工件進行轟擊淨化。轟擊10~20min;沉積氮化鈦硬質塗層。將工件偏壓降至50~ 200V,開啓空心陰極電源,加大氬氣的流量,當真空度達到100Pa左右時,銀管首先產生輝光放電,然後很快轉為弧光放電。內徑6mm的鉭管,弧電流50~80A; 內徑15mm 的鈕管,弧電流可達300~400A。如此高密度的電子流到達坩堝,將金屬加熱、蒸發。首先沉積一層純鈦的底層,以提高塗層和基體的結合力。 [1] 
中文名
空心陰極離子鍍技術
定    義
通過烘烤加熱工件及氬離子轟擊淨化
將偏壓降至50~100V,通人氮氣。沉積氮化鈦塗層時的真空度一般為(3~8)X10-1Pa,獲得緻密的氨化鈦等化合物塗層。沉積時間20~40min,由沉積厚度決定。達到預定沉積時間後,關閉弧電源、偏壓電源、工件轉架、氬氣、氮氣。
參考資料
  • 1.    馬永傑.熱處理工藝方法:化學工業出版社,2008