磁控濺射離子鍍

磁控濺射離子鍍，將磁控濺射和離子鍍結合起來的鍍膜工藝。其原理是：在真空室充入氬氣，並在磁控濺射靶材上施加負偏壓，氬離子在電場作用下轟擊靶面，被濺射出來膜料原子向工件遷移過程中部分被電離，並在基板負偏壓作用下加速運動，最終在工件上沉積成膜。 ^[1]