磁性薄膜材料

其製備方法主要有：

①真空蒸發法。即在真空狀態下將加熱蒸發的磁性材料沉積在基片上。

②電沉積法。即將磁性材料和基片做成陽極和陰極，在電解液中通過電化學作用，磁性陽極材料沉積到陰極基片上。

③濺射法。即將磁性陽極材料和基片分別作為陰極和陽極，在抽真空後又充入惰性氣體電離成離子並高速轟擊陰極，使陰極表面濺射出的原子附着於陽極基片上。此外，還有外延生長法、化學鍍膜法等。

各種磁性材料幾乎都可製成成分和厚度可以控制的磁膜材料。一般按材料性質分為金屬和非金屬磁膜材料；按材料組織狀態分為非晶、多層調製和微晶磁膜材料。磁膜材料廣泛用於製造計算機存儲，光通信中的磁光調製器、光隔離器和光環行器等；也用作磁記錄薄膜介質和薄膜磁頭，以及磁光記錄盤等。

磁性薄膜材料，英文magnetic thin film material，厚度在1微米以下的強磁性（鐵磁性和亞鐵磁性）材料。簡稱磁膜材料。使用時需附於弱磁性材料的基片上。磁膜材料的磁特性取決於其製備方法和工藝條件。