研磨工藝

①濕研將液狀研磨劑塗敷或連續加註於研具表面，使磨料(W14～W5)在工件與研具間不斷地滑動與滾動，從而實現對工件的切削。濕研應用較多。

②幹研將磨料(W3.5～W0.5)均勻地壓嵌在研具表層上，研磨時需在研具表面塗以少量的潤滑劑。幹研多用於精研。③半乾研所用研磨劑為糊狀的研磨膏，粗、精研均可採用。

①微細性：可對工件進行0.01～0.1μm切削。

②隨機性：工件與研具隨機接觸，高點相互修整，誤差逐步減小，精度同時得到提高。

③針對性：可檢測工件，有針對性變動研磨位置和掌握研磨時間，保證尺寸和形狀精度。

1)研具材料鑄鐵：研磨淬硬和不淬硬的鋼件及鑄鐵件。黃銅：研磨各種軟金屬。

2)研磨劑①磨料：氧化鋁、碳化硅、氧化鐵、氧化鈰等。②研磨液：機油、煤油、動物油及油酸、硬脂酸

研磨分為手工研磨和機械研磨。手工研磨平面時，研磨劑塗在研磨平板(研具)上，手持工件作直線往復運動或“8”字形運動。研磨一定時間後，將工件調轉90°～180°，以防工件傾斜。對於工件上局部待研的小平面、方孔、窄縫等表面，也可手持研具進行研磨。批量較大的簡單零件上的平面亦可在平面研磨機上研磨。研磨平面研磨凹槽。

手工研磨時，研具表面各處要均勻磨削，以延長研具的使用壽命。同時要合理選擇研磨的運動軌跡。研磨時的運動軌跡有直線、直線擺動、螺旋形、“8”字形和仿“8”字形等，其共同特點是被加工表面與研具面做密合的平面運動。

直線研磨運動軌跡可獲得較高的精度，適用於有台階的狹長平面的研磨。直線擺動研磨運動軌跡(左右擺動往復移動)，主要適用於對平面度要求較高的角尺側面及圓弧測量面等的研磨。螺旋形研磨運動軌跡，能獲得較低的表面粗糙度和較高的平面度，主要適用於研磨圓片或圓柱形工件的端面。“8”字形和仿“8”字形研磨運動軌跡，能使研具磨損均勻，適用於研磨小平面 ^[3]  。

研磨平面的説明：研磨平面一般在精磨之後進行。平面研磨是在非常平整的研磨平板上進行的。粗研磨在有槽平板上進行，精研磨在光滑平板上進行。先在平板或工件上塗上適當的研磨劑，再將待研磨面貼合在研板上，以“8”字形或螺旋形和直線運動相結合的方式進行研磨，並不斷變更工件的運動方向，直至達到精度要求。在研磨狹窄平面時，可用V形鐵作依靠進行研磨，採用直線研磨運動軌跡。控制好研磨速度和壓力，一般小的硬工件或粗研磨可用較大的壓力，而大工件或精研磨可用較小的壓力 ^[3]  。

圓柱面的研磨一般是手工與機器配合用研磨套(研磨環)進行研磨。

研磨外圓柱面時工件由車牀帶動轉動，其上均勻塗抹研磨劑，研磨套在工件上沿軸線方向做往復運動。工件的轉速應以工件的直徑來控制，直徑小於φ80mm時轉速為100r/min，直徑大於φ100mm時為50r/min。當出現45°交叉網紋路時，説明研磨套移動速度適宜。研磨內圓柱面時與研磨外圓柱面相反，它是將工件套在研磨棒上進行，研磨棒夾在車牀卡盤上 ^[3]  。

工件圓錐表面的研磨，包括圓錐孔和外圓錐面的研磨。研磨時必須要用與工件錐度相同的研磨棒或研磨環，其結構有固定式和可調節式兩種。

固定式圓錐研磨棒的表面開有螺旋槽，其旋向有左旋和右旋兩種。

研磨時使研具和工件的錐面接觸，用手順一個方向轉3～4次後，使錐面分離，然後再推入研磨即可。有些工件的表面是直接用彼此接觸的表而進行研磨來達到密封的，不需要用研磨棒或研磨環 ^[3]  。

將有溝槽的平板放在鉗工台上，把研磨劑和鋼球放入平板溝槽內，上面覆一塊無溝槽的平板，推動無溝槽平板，作平面往復旋轉運動來進行研磨 ^[4]  。

把兩塊與V形槽角度相等的研具裝在底板上調整所需距離和高度誤差，然後擰緊螺釘，即可進行研磨，此方法適用於成批生產 ^[4]  。

①設備簡單，精度要求高。

②加工質量可靠。可獲得很高的精度和很低的Ra值。但一般不能提高加工面與其他表面之間的位置精度。

③可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁及其合金、硬質合金、陶瓷、玻璃及某些塑料製品等。

④研磨廣泛用於單件小批生產中加工各種高精度型面，並可用於大批大量生產中。