真空蒸鍍法

真空蒸鍍法，將鐵磁性母合金在真空中蒸發，並沉積於聚酯薄膜上製備合金薄膜磁帶的方法。影響磁帶性能的主要因素有：帶基表面的粗糙度；真空沉積時帶基的温度；蒸發時的入射角；通過擋板來調節蒸發速率及沉積速率；沉積時的氣氛以及鐵磁性母合金的成分等。 ^[1]