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熱化學氣相沉積

鎖定
熱化學氣相沉積是2011年公佈的材料科學技術名詞。
中文名稱
熱化學氣相沉積
英文名稱
thermal chemical vapor deposition
定  義
在800~2000℃的高温反應區,利用電阻加熱,高頻感應加熱和輻射加熱的化學氣相沉積。
應用學科
材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科)
中文名
熱化學氣相沉積
外文名
thermal chemical vapor deposition
所屬學科
材料科學技術 [1] 
公佈年度
2011年

目錄

熱化學氣相沉積定義

在800~2000℃的高温反應區,利用電阻加熱,高頻感應加熱和輻射加熱的化學氣相沉積。

熱化學氣相沉積出處

《材料科學技術名詞》。
參考資料