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溶劑蒸發法

鎖定
溶劑蒸發法是指將溶劑中的水蒸發逸出,使溶液處於過飽和狀態,從而使晶體生長有足夠驅動力的晶體生長法。主要裝置有自控加熱器,轉晶電機,冷凝回收溶劑裝置等。生長時可以保持恆温,用控制蒸發量來控制溶液的過飽和度,得到的晶體成分均勻,生長過程穩定,利於摻雜晶體生長。但是排出腐蝕溶劑,蒸發速率難控制,出現局部高過飽和度使晶體交叉生長。已用於製備倍頻晶體1.iTi2和壓電品體Li,SH2。 [1] 
中文名稱
溶劑蒸發法
英文名稱
solvent evaporation method
定  義
通過溶劑的揮發使溶質濃度增大,獲得過飽和溶液,實現晶體生長的方法。
應用學科
材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),晶體生長(四級學科)
中文名
溶劑蒸發法
主要裝置
自控加熱器,轉晶電機,冷凝回收溶劑裝置等
生長時可以保持恆温,用控制蒸發量來控制溶液的過飽和度,得到的晶體成分均勻,生長過程穩定,利於摻雜晶體生長。但是排出腐蝕溶劑,蒸發速率難控制,出現局部高過飽和度使晶體交又生長。已用於製備倍頻晶體1.iTi2和壓電品體Li,SH2。
參考資料
  • 1.    李恆德主編.現代材料科學與工程辭典:山東科學技術出版社,2001年08月第1版:第222頁