深亞微米集成電路

深亞微米集成電路：深亞微米制造的關鍵技術主要包括紫外光刻技術、等離子體刻蝕技術、離子注入技術、銅互連技術（不是同互連）等。國際上集成電路的主流生產工藝技術為0.010μm-0.028μm。