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波紋效應

（光刻中的一種效應）

鎖定
波紋效應（Ripple Effect）是由於入射光與反射光產生干涉使沿膠厚的方向的光強形成波峯和波谷產生的，即來自襯底的反射光與入射光干涉，光強在垂直基底的方向上呈現強弱週期性變化。
中文名
 波紋效應
外文名
 Ripple Effect
隨着基底反射率的增加，駐波效應變得嚴重，進而影響光柵掩模的槽形、佔寬比並限制線條高度。降低或消除波紋效應的方法：一是顯影前烘焙（PEB）；二是加抗反射層即用有機(TARC/BARC)或者無機材料(TIN)來降低基底反射光強度，從而減弱駐波效應的效果顯著 [1]  。
參考資料
  • 1.    [1] 邱克強, 劉正坤等，全息光刻中的駐波效應研究，物理學報，2012：Vol.61