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水峯

(OH-離子引起的損耗峯)

鎖定
水峯即為OH-離子引起的損耗峯,損耗因素是吸收損耗、瑞利散射損耗等。
中文名
水峯
定    義
OH-離子引起的損耗峯
損耗因素
吸收損耗、瑞利散射損耗等
光纖製造損耗
在製造光纖的工藝過程中產生的
光纖的損耗因素主要有吸收損耗、瑞利散射損耗和其他損耗。這些損耗又可以歸納為本徵損耗、製造損耗和附加損耗等。
光纖製造損耗是在製造光纖的工藝過程中產生的,主要由光纖中不純成分的吸收(雜質吸收)和光纖的結構缺陷引起。雜質吸收中影響較大的是各種過渡金屬離子和OH-離子導致的光的損耗。其中OH-離子的影響比較大,它的吸收峯分別位於950nm,1240mm和1390nm,對光纖通信系統影響較大。
隨着光纖製造工藝的日趨完善,過渡金屬的影響已不顯著,最好的工藝已可以使OH-離子在1390nm處的損耗降低到0.04dB/km,甚至小到可忽略不計的程度。