氧分析儀

測量原理：專門測氧的電化學氧氣傳感器有一個陽極，Pb或Cd，給在陰極發生的還原反應提供電荷，在陽極的氧化反應所釋放出電荷通過外部電路移動到陰極，在陰極的氧分子按如下方程式消耗電荷：

在酸性電解液中

在陽極的氧化反應: 2Pb + 2H₂O → 2PbO + 4H⁺+ 4e^-

在陰極的還原反應: O₂ + 4H⁺ + 4e^-→ 2H₂O

在普通電解液中

在陽極的氧化反應: 2Pb + 4OH^- → 2PbO + 2H₂O + 4e^-

在陰極的還原反應: O₂ + 2H₂O + 4e^- → 4OH^-

在如上兩種情形下的整體反應都是: 2Pb + O₂ → 2PbO。這種類型的傳感器不需要參比電極。

測量原理：一種新型的非接觸式可調諧二極管激光吸收光譜(TDLAS)測氧儀器。該技術是利用激光能量被氣體分子“選項”吸收形成吸收光譜的原理來測量氧氣濃度的一種技術。具體來説，半導體激光器發射出來的特定波長的激光束穿過被測氣體時，被測氣體中氧氣對激光束進行吸收導致激光強度產生衰減，激光強度的衰減與被測氣體中氧含量成正比，因此通過測量激光強度衰減信息就可以分析獲得被測氣體的濃度。

測量原理：是利用穩定的二氧化鋯陶瓷在650℃以上的環境中產生的氧離子導電特性而設計的。在一定的温度條件下，如果在二氧化鋯塊狀陶瓷兩側的氣體中分別存在着不同的氧分壓（即氧濃度）時，二氧化鋯陶瓷內部將產生一系列的反應，和氧離子的遷移。這時通過二氧化鋯兩側的引出電極，可測到穩定的毫伏級信號，我們稱之為氧電勢。它服從能斯特（Nernst）方程：式中E為氧傳感器輸出的氧電勢（mv），Tk為爐內的絕對温度（K），P1和P2分別為二氧化鋯兩側氣體的氧分壓。實際應用時，將二氧化鋯的一側通入已知氧濃度的氣本（通常為空氣），我們稱之為參比氣。另一側則是被測氣體，就是我們要檢測的爐內的氣氛。氧傳感器輸出的信號就是氧電勢信號，通過能斯特方程我們就可以得到被測爐氣氛中的氧分壓和氧電勢的關係。參比氣為空氣時，可表示為：式中E為氧傳感器輸出氧電勢；Tk為爐內的絕對温度；P02為爐內的氧分壓。武漢華敏氧傳感器產品帶有自加熱裝置，一般温度保證在700℃，這樣TK數值基本是恆定的，從而通過上式可以直接測量出爐內氧分壓濃度。 ^[2] 

在實際應用中，有時由於儀表出廠後經過較長時間才安裝使用，導致氧量計測量值可能發生偏差，其測量空氣含氧量為19%左右，與實際情況有較大偏差。這個時候可以對氧含量分析儀進行校正。

氧化鋯氧分析儀:氧化鋯氧含量分析儀系統都經過嚴格的檢測標定，現場初次安裝時無需重新標定。當系統運行一段時間後，建議每間隔6個月對系統進行標一次定。現場有條件時，可進行2點標定，即系統的零點、滿度標定。現場無條件時，進行單點標定即可，即系統的滿度標定。系統滿度標定氣採用空氣即可，獲取容易。

安裝場對儀表的工作情況影響很大，切忌安裝在爐內側、死角、渦流及縮口處,內側和死角點易使響應遲緩,渦流處氧量波動大,縮口處易灰堵和沖刷大；安裝點處應有操作平台,便於安裝氧化鋯探頭和校準,安裝操作方便。如對電站鍋爐燃燒控制而言,一個煙氣含氧量測點是遠遠不夠的。建議運行優化控制系統要求有三個以上的煙氣含氧量測點,每個測點配置兩台對稱安裝的氧化鋯氧分析儀。 ^[1]