正入射

英文：vertical incidence sound absorption coefficient

平面波的入射方向與材料的軸線方向平行測得的或計算的吸聲係數 ^[2]  。

吸聲係數：一個表面所吸收的聲能量與入射到該表面的聲能量之比。是表示材料吸聲特性的主要參數。對絕大多數的吸聲材料，吸聲係數均與聲入射方向及測量方法有關，故相應於不同的入射條件 (垂直入射、斜入射和無規入射) 有三種吸聲係數。其測量方法一般有駐波管法和混響室法兩種 ^[1]  。

掠入射：光從光疏介質向光密介質傳播，入射角接近於90度時為掠射。注意：一定要從光疏介質（折射率小）向光密介質（折射率大），入射角一定要極其接近與90°（事實上略小於90°，但在計算時完全可以按90°算）。在掠射或垂直入射2種情況下，當光從光疏介質射向光密介質時，反射過程中會產生半波損失。

正入射：又稱法向入射,是入射波波陣面法線垂直於媒質分界面時的情況。在討論柔性牆的傳聲損失時，常有正入射、場入射和無歸入射之分。正入射時入射角為0°。

正入射顯微鏡：國際上採用正入射顯微鏡進行等離子體診斷研究的還不多，這主要是正入射顯微鏡的工作波長大於4.4nm，不適合作能量較高的等離子體診斷工具。但從已取得的結果看，正入射顯微鏡具有分辨率高、集光面積大、視場大、準單色成像等優點，可以獲得其它方法難以得到的結果。只要很好地利用現有的條件，加強ICF（慣性約束核聚變）研究和X射線光學(包括顯微鏡)研究兩方面人員的聯繫，共同尋找可以利用正入射顯微鏡的領域，相信會使X射線正入射顯微鏡用在我國的ICF研究上，並取得良好的研究成果。

關鍵技術：在X射線正入射顯微鏡研製過程中必須解決的關鍵問題有超光滑表面加工及測試，帶寬匹配良好的高反射率多層膜製備，光學元件無應力裝配，顯微鏡調整和濾光片製備。

用X射線正入射顯微鏡可以高分辨率觀察較大範圍內激光等離子體的準單色輻射像，並可由觀測到的結果得到光源光譜輻亮度及觀察波段總輻射能，這表明X射線正入射顯微鏡是研究激光等離子體一種強有力的診斷工具。用正入射顯微鏡和具有時間分辨本領的分幅相機可以觀察準單色光高分辨圖像的激光等離子體時間演化過程，這對於探討等離子體產生、演變機理具有重要的意義 ^[3]  。