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束源
鎖定
beam source
隙流束源(effusive beam source)是採用加熱的方法使分子(如鈉)蒸發,從狹縫中射出,經一準直孔把發散的分子擋掉,可得一束較窄而直的分子束射向反應室。束源出口小孔的尺寸要小於束源內分子熱運動的平均自由程,束源內分子速度是按玻爾茲曼分佈,分子速度分佈相對較寬,發散角大,因而束強較小。隙流束源又稱熱束源、擴散束源、爐束源等。
超聲分子束源(supersonic molecular beam)氣體分子從噴嘴射出,經出口孔、準直器進入真空室。其特點是束源強度大,沿軸線方向流動使束的發散性得到抑制;由於向真空絕熱膨脹,温度可降低到小於20K;速度分佈窄。由於馬赫數M(=束流速度/聲速)可達幾十(超音速),故又稱超聲分子速。
分子束的強度即束強(beam intensity),是單位時間通過與入射束運動方向相垂直的單位面積的粒子數。
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