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曝光時間
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半導體光刻工藝中的曝光時間
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曝光時間
(半導體光刻工藝中的曝光時間)
鎖定
為了提高芯片製造中版圖圖形的的尺寸
精度
,在每個曝光圖形處,都會按照曝光尺寸使
曝光時間
相應有所變化
[1]
。
中文名
曝光時間
外文名
flashing time
相當於
電子束
光刻系統中電子束鄰近效應劑量調製曝光,以補償由於電子
散射
和背射所引起的
鄰近效應
對成像質量有所影響
[1]
。
參考資料
1.
超大規模集成電路先進光刻理論與應用
.百度學術
.2016
[引用日期2019-10-18]
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最近更新:
litho_world
(2019-10-19)
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