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曝光後烘烤
鎖定
曝光後烘烤,集成電路術語。
- 中文名
- 曝光後烘烤
- 外文名
- Post Exposure Bake
- 英文縮寫
- PEB
曝光後烘烤是以一定温度烘烤曝光後的硅片,目的是降低駐波效應的影響以及使化學反應更充分
[1]
。
在曝光過程中,在曝光區與非曝光區邊界將會出現駐波效應,駐波效應將會在兩個區域的邊界附近形成強弱相間的過渡區,這將影響顯影后形成的圖形尺寸和分辨率。為了降低駐波效應的影響,在曝光後需要進行烘焙,稱為曝光後烘烤
[2]
。同時光致抗蝕劑(光刻膠)被曝光後其光致化學反應並未完全結束,此時需要通過一定温度的烘烤使其反應完全,同時通過光致反應產生的活性成分在此過程中產生擴散,從而通過化學方法增強由光強分佈產生的潛像,更精確的控制圖形形貌。不同的烘烤温度以及烘烤時間會造成不同速度的光酸反應,會影響到最終圖形的形貌,典型PEB條件為110°-130°,熱板時間為幾十秒到2分鐘
[3]
。