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曝光區域
鎖定
- 中文名
- 曝光區域
- 外文名
- exposure field
先進步進-掃描式光刻機所能支持的最大曝光區域(exposure field)面積是 26mm×33mm,而步進式光刻機(stepper)的曝光區域只22mm×22mm。光刻工藝中,在曝光時,實際芯片可能小於這個尺寸,光刻機的曝光區域必須能夠隨之做調整。也可以把幾個不同的版圖放在同一張掩模版上,這樣一個曝光區域中就可以有幾個不同的器件設計(又稱為“die”),最終制備成幾個不同功能的芯片,如圖1所示
[1]
。
與曝光區域相關的幾個概念解釋如下:
(1)網格(grid),按照曝光區域把晶圓表面分成若干大小相同的矩形區域的網格;
(2)每一個網格內的區域被稱為一個單元(cell);