暗場像

明暗場成像原理：晶體薄膜樣品明暗場像的襯度（即不同區域的亮暗差別），是由於樣品相應的不同部位結構或取向的差別導致衍射強度的差異而形成的，因此稱其為衍射襯度，以衍射襯度機制為主而形成的圖像稱為衍襯像。如果只允許透射束通過物鏡光欄成像，稱其為明場像；如果只允許某支衍射束通過物鏡光欄成像，則稱為暗場像。有關明暗場成像的光路原理參見圖。就衍射襯度而言，樣品中不同部位結構或取向的差別，實際上表現在滿足或偏離布拉格條件程度上的差別。滿足布拉格條件的區域，衍射束強度較高，而透射束強度相對較弱，用透射束成明場像該區域呈暗襯度；反之，偏離布拉格條件的區域，衍射束強度較弱，透射束強度相對較高，該區域在明場像中顯示亮襯度。而暗場像中的襯度則與選擇哪支衍射束成像有關。如果在一個晶粒內，在雙光束衍射條件下，明場像與暗場像的襯度恰好相反。