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旁瓣
(光刻中的旁瓣)
鎖定
在光學光刻中,由於光學衍射產生的一種鄰近效應
[1]
。
- 中文名
- 旁瓣
- 外文名
- sidelobe
由於光學衍射產生鄰近效應,在主圖形外產生的非設計需要的圖形,通常發生在拐角圖形處,因衍射光的干涉效應額外出現如天線旁瓣狀圖形
[2]
,當曝光能力過強,光致抗蝕劑能量閾值過低時,顯影后容易留下額外的圖形
[1]
。
- 參考資料
-
- 1. 微電子學微光刻技術術語,陳寶欽,2015.
- 2. 超大規模集成電路先進光刻理論與應用 .百度學術.2016[引用日期2019-11-26]
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