複製鏈接
請複製以下鏈接發送給好友

摻雜程度

鎖定
摻雜程度(doping level)是指在無機半導體中,雜質原子取代主原子位置的過程。
中文名
摻雜程度
外文名
doping level
而導電高聚物中常用的滲雜術語,其物理含義與傳統的無機半導體中所常用的摻雜概念完全不同,具有如下的特點:(1)從化學角度講摻雜的實質是氧化一還原過程;(2)從物理角度講摻雜是離子嵌入的過程;(3)摻雜和脱摻雜是完全可逆的過程,導電高聚物脱摻雜後除去高電導率特性外,摻雜量大大超過無機半導體摻雜量的限度。所以,離子與導電高聚物進行氧化一還原反應的程度J為摻雜程度。
[1] 
參考資料
  • 1.    化學化工大辭典