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掩膜
鎖定
掩膜(MASK):全稱單片機掩膜,是指程序數據已經做成光刻版,在單片機生產的過程中把程序做進去。
優點是:程序可靠、成本低。
- 中文名
- 掩膜
- 外文名
- MASK
- 缺 點
- 批量要求大
- 圖像掩模
- 選定的圖像
- 優 點
- 程序可靠、成本低。
掩膜單片機掩膜
在半導體制造中,許多芯片工藝步驟採用光刻技術,用於這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”),其作用是:在硅片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板遮蓋,繼而下面的腐蝕或擴散將隻影響選定的區域以外的區域。
掩膜圖像掩膜
用選定的圖像、圖形或物體,對處理的圖像(全部或局部)進行遮擋,來控制圖像處理的區域或處理過程。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板。光學圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數字圖像處理中,掩模為二維矩陣數組,有時也用多值圖像。
數字圖像處理中,圖像掩模主要用於:
①提取感興趣區,用預先製作的感興趣區掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區圖像,感興趣區內圖像值保持不變,而區外圖像值都為0。
②屏蔽作用,用掩模對圖像上某些區域作屏蔽,使其不參加處理或不參加處理參數的計算,或僅對屏蔽區作處理或統計。
④特殊形狀圖像的製作。