投影式光刻機

投影式光刻機一般採用步進-掃描式曝光方法。光源並不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如圖1（a）所示。載有掩模的工件台在狹縫下沿着一個方向移動，等價於曝光系統對掩模做了掃描，如圖1（b）所示。與掩模的掃描同步，晶圓沿相反的方向以1/4的速度移動。現代光刻機中，掩模掃描的速度可以高達2400mm/s，對應的晶圓移動速度是600mm/s。較高的掃描速度可以縮短曝光時間，從而提高光刻機的產能。