外來雜質

就是非區域內部的雜質。

用於屏蔽從基片上的第一區域凸出的器件免受等離子體影響、同時用等離子體從基片上的不同區域去除外來雜質的設備和方法。所述設備包括至少一個凹陷，其被定位並定好尺寸以接收器件，以便器件被屏蔽而免受等離子體的影響。所述設備進一步包括窗口，通過所述窗口，等離子體去除外來雜質。所述方法通常包括去除外來雜質，同時屏蔽器件免受暴露於等離子體的影響。