複製鏈接
請複製以下鏈接發送給好友

均勻照射

鎖定
均勻照射(homogeneous exposure)是2020年全國科學技術名詞審定委員會公佈的醫學影像技術學名詞,出自《醫學影像技術學名詞》第一版。
中文名
均勻照射
外文名
homogeneous exposure
所屬學科
醫學影像技術學
公佈時間
2020年

目錄

均勻照射定義

當一個受照目標體受到輻射照射時,入射線能量和注量均不隨該目標體自身幾何位置變化而改變的照射。 [1] 

均勻照射出處

《醫學影像技術學名詞》第一版。
參考資料