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四氟化碳
鎖定
四氟化碳，又名四氟甲烷，化學式為CF4，它既可以被視為一種鹵代烴（有機物），也可以被視為一種無機化合物，常温常壓下為無色氣體，不溶於水，溶於苯和氯仿，主要用於各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體、低温製冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
- 中文名
- 四氟化碳
- 外文名
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Carbon tetrafluoride
R14 - 別 名
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四氟甲烷
全氟甲烷 - 化學式
- CF4
- 分子量
- 88.004
- CAS登錄號
- 75-73-0
- EINECS登錄號
- 200-896-5
- 熔 點
- -184 ℃
- 沸 點
- -130 ℃
- 水溶性
- 不溶
- 外 觀
- 無色氣體
- 安全性描述
- S38
- 危險性符號
- F
四氟化碳理化性質
熔點：-184℃
沸點：-130℃
臨界温度：-45.5℃
臨界壓力：3.74MPa
折射率：1.113（-53ºC）
飽和蒸氣壓：13.33kPa（-150.7℃）
外觀：無色氣體
四氟化碳分子結構數據
摩爾折射率：7.3
摩爾體積（cm3/mol）：66.8
等張比容（90.2K）：105.0
表面張力（dyne/cm）：6.0
四氟化碳計算化學數據
疏水參數計算參考值（XlogP）：1.8
氫鍵供體數量：0
氫鍵受體數量：4
可旋轉化學鍵數量：0
互變異構體數量：0
拓撲分子極性表面積：0
重原子數量：5
表面電荷：0
複雜度：19.1
同位素原子數量：0
確定原子立構中心數量：0
不確定原子立構中心數量：0
確定化學鍵立構中心數量：0
不確定化學鍵立構中心數量：0
四氟化碳用途
主要用於各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體、低温製冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
四氟化碳儲存方法
儲存於陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫温不宜超過30℃。應與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。
- 參考資料
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- 1. 四氟化碳 ．化學+[引用日期2022-05-28]
