單液硅化法

單液硅化法的化學反應方程式如下：

Na2O.nSiO2+CaCl2+mH2O→nSiO2(m-1)H2O+Ca(OH)2+2NaCl

其中nSiO2(m-1)H2O即為對加固起到關鍵作用的硅酸凝膠。

單液硅化法加固濕陷性黃土地基通常採用兩種工藝，一種是壓力灌注，另一種溶液自滲。壓力灌入需要加壓設備和金屬灌注管，成本相對較高，優點是加固範圍較大，不僅可以加固基礎側向，還可以加固既有建築物基礎底面一下的部分土層；溶液自滲的灌注孔可採用鑽機和洛陽鏟成孔，溶液自滲的速度慢，擴散範圍小。

單液硅化法的溶液應由濃度為10%-15%的硅酸鈉，摻入2.5%氯化鈉組成，其相對密度不得小於1.1，一般宜為1.13-1.15。

灌注孔的間距採用壓力灌注時宜為0.8-1.2m；採用溶液自滲時宜為0.4-0.6m。灌注孔在基礎底面下按等邊三角形滿堂布置，超過基礎底面外緣的寬度，每邊不得小於1m。

單液硅化法使用的工程情況包括以下幾種：

1、沉降不均勻的既有建（構）築物和設備基礎；

2、地基受水浸濕引起濕陷，需要立即阻止濕陷繼續發展的建（構）築物和設備基礎；

3、擬建的設備基礎和構築物。 ^[1]