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化學氣相沉澱法

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化學氣相沉澱法（CVD）是從氣態金屬鹵化物（主要是氯化物）中還原化合沉澱製取難熔化合物粉末和各種塗層（包括碳化物，硼化物，硅化物和氮化物等）的方法
中文名
化學氣相沉澱法
外文名
chemical vapor deposition method
學    科
粉末冶金
簡    稱
CVD
[1] 
參考資料
  • 1.    阮建明 黃培雲 ．粉末冶金原理：機械工業出版社，2016：57