劉忠偉

低温等離子體功能材料沉積（等離子體增強化學氣相沉積/原子層沉積），等離子體診斷

2008.7至今，北京印刷學院，講師、副教授、教授；

1996.7-2001.5，濟南雙利達集團。

2018.8-2019.1，俄亥俄州立大學機械工程學院，訪問學者；

2012.11-2013.5，哈佛大學化學與生物化學系，訪問學者。

2001.9-2008.7，在大連理工大學應用化學專業，碩博連讀，獲博士學位。

1992.9-1996.7，就讀於山東輕工業學院化學系，獲學士學位。

2009年入選北京市委組織部“優秀人才”培養計劃；

2014年當選北京市屬高等學校高層次人才引進與培養—青年拔尖人才培育計劃。

中國電工技術學會等離子體及應用專業委員會、中國電工技術學會電子束離子束專業委員會、中國力學學會等離子體科學與技術專業委員會、中國真空學會薄膜專業委員會委員與中國環境科學學會綠色包裝委員會委員。

近五年所主持代表性項目：

1、 等離子體輔助原子層沉積碳化鎳及其熱分解制備石墨烯互連材料的研究，國家自然科學基金面上項目，2021.01-2024.12，63萬；

2、 等離子體增強原子層沉積製備碳化鎳薄膜及其電化學析氫性能的研究，北京市自然科學基金-市教委聯合項目, 2020.1-2022.12, 80萬；

3、 螺旋波等離子體輔助原子層沉積製備銅鎳雙金屬催化材料的研究，國家自然科學基金面上項目，2018.01-2021.12，58萬；

4、 等離子體輔助原子層沉積銅籽晶層及其沉積機理研究，北京市自然科學基金面上項目， 2016.01-2018.12，18萬；

5、 化學氣相沉積技術製備石墨烯互聯材料的研究，北京印刷學院校級項目，2020.9-2021.12, 36萬；

6、真空氣相沉積技術在柔性材料中的應用，橫向課題，2017.6.20-2022.6.20，60萬元。

1. Sen Chen, Xiangyu Zhang, Bowen Liu, and Zhongwei Liu, Pulsed Chemical Vapor Deposition of Cobalt and Cobalt Carbide Thin Films, Journal of Vacuum Science & Technology A, 2022, 40(2): 023401.

2. Xu Tian, Xiangyu Zhang, Yulian Hu, Bowen Liu, Yuxia Yuan, Lizhen Yang, Qiang Chen, and Zhongwei Liu, Fabrication of iron carbide by plasma-enhanced atomic layer deposition, Journal of Materials Research, 2020, 35: 813-821

3. Qipeng Fan, Zheng Guo, Zhuangzhi Li, Zhengduo Wang, Lizhen Yang, Qiang Chen, Zhongwei Liu,* and Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Cobalt Carbide from an Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma, ACS Applied Electronic Materials, 2019, 1(3): 444-453

4. Qipeng Fan, Lijun Sang, Derong Jiang, Lizhen Yang, Haibao Zhang, Qiang Chen and Zhongwei Liu*, Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Cobalt Nitride with Cobalt Amidinate, Journal of Vacuum Science & Technology A, 2019, 37: 010904

5. Yulian Hu, Xu Tian, Qipeng Fan, Zhengduo Wang, Bowen Liu, Linzhen Yang and Zhongwei Liu* Fabrication and characterization of iron and iron carbide thin films by plasma enhanced pulsed chemical vapor deposition, Plasma Science and Technology, 2019, 21(10): 10552

6. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi, Lijun Sang, Bo Gao, Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Fabrication of nickel and nickel carbide thin films by pulsed chemical vapor deposition, MRS Communications, 2018, 8: 88-94

7. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi, Wei Xiong, Haibao Zhang, Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Nickel Carbide from a Nickel Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma, ACS Applied Materials & Interfaces, 2018, 10: 8384-8390

8. Wei Xiong, QunGuo, Zheng Guo, Hao Li, Ran Zhao, Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Nickel Carbide for Supercapacitors and ElectrocatalyticHydrogen Evolution, Journal of Materials Chemistry A, 2018, 6: 4297-4304

1.一種解析電噴霧電離裝置 劉忠偉 王正鐸 楊麗珍，2022.06.21授權

2.一種碳化鈷薄膜及其製備方法 王新煒，劉忠偉，陳強，樊啓鵬，國政，專利號 ZL 201811517932.8

3.一種高效組合式大氣壓電離源，楊麗珍，劉忠偉，郭羣，王衞國，專利號ZL 201610855957.3,

4.採用等離子體射流製備高阻隔薄膜的方法，劉忠偉, 陳強, 趙高, 原建松, 曹慶波，申請號CN201410140035.5

本科生課程：

1.材料科學與工程基礎（雙語）；

2.功能薄膜材料及技術（雙語）；

研究生課程：

等離子體技術及應用 ^[1]