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刻蝕系統
鎖定
刻蝕系統是一種用於數學領域的分析儀器，於2004年10月01日啓用。
- 中文名
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刻蝕系統
- 產 地
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中國台灣
- 學科領域
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數學
- 啓用日期
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2004年10月01日
- 所屬類別
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分析儀器 > 電子光學儀器
刻蝕系統技術指標
工藝設定温度：20-25度混合化學藥劑溶液：NH4F+HF溶液槽容量：10L。
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刻蝕系統主要功能
設備配有排風管道，隨時抽走揮發性的酸鹼設備自動化程度高，可以控制温度並且監測温度能夠自動和手動控制每個溶液槽操作細微調節水槽補水、放水、溢流時間面板式按鈕操作，直觀易操作。
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- 參考資料
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1.
刻蝕系統
．國家科技基礎條件平台中心[引用日期2020-11-14]
