分步重複

在集成電路製造工藝光刻模塊中需要使用掩模來進行曝光。利用激光直寫系統和電子束直寫系統製造掩模版時，可以直接在掩模基片上掃描曝光出與分步重複方式一樣的陣列掩膜圖形。

光學掩模製造設備或者光刻設備採用分步重複的方法把一個（或者一組）芯片圖形以陣列的排列方式曝光在感光基片上，以此來實現掩模版製造或者硅片光刻，如分步重複精縮機和投影光刻機都採用這種曝光方式 ^[2]  。