全國半導體設備和材料標準化技術委員會

1

TC203/SC1

氣體

電子工業用氣體（微電子、光電子、平板顯示器製造用氣體等）

1993年

2

TC203/SC2

材料

半導體材料

1993年

3

TC203/SC3

封裝

封裝

1993年

4

TC203/SC4

微光刻

微光刻術語等基礎通用，掩模基片、掩模版及光致抗蝕劑等關鍵材料的產品規範和檢測方法，微光刻圖形數據處理技術、光學光刻與電子束光刻工藝等微光刻關鍵工藝規範，光掩模製造與光刻工藝相關設備及部件等

2020年

1

20204893-T-469

碳化硅外延層厚度的測試 紅外反射法

制訂

2020-12-28

正在起草

2

20204892-T-469

半導體單晶晶體質量的測試 X射線衍射法

制訂

2020-12-28

正在起草

3

20204891-T-469

硅片表面光澤度的測試方法

制訂

2020-12-28

正在起草

4

20204890-T-469

電子特氣 一氧化氮

制訂

2020-12-28

正在起草

5

20204895-T-469

硅錠、硅塊和硅片中非平衡載流子複合壽命的測試 非接觸渦流感應法

制訂

2020-12-28

正在起草

6

20204889-T-469

電子特氣 六氯乙硅烷

制訂

2020-12-28

正在起草

7

20204894-T-469

藍寶石單晶晶棒

修訂

2020-12-28

正在起草

8

20204090-T-469

電子級正硅酸乙酯

制訂

2020-11-23

正在起草

9

20204091-T-469

平板顯示陣列用正性光阻材料 感光度測試方法

制訂

2020-11-23

正在起草

10

20203728-T-469

碳化硅外延片表面缺陷的測試 顯微可見光法

制訂

2020-11-23

正在起草