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光學材料均勻性測量儀

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光學材料均勻性測量儀是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的物理性能測試儀器，於2016年06月05日啓用。
中文名
光學材料均勻性測量儀
產    地
美國
學科領域
信息與系統科學相關工程與技術
啓用日期
2016年06月05日
所屬類別
物理性能測試儀器

目錄

  1. 1 技術指標
  2. 2 主要功能

光學材料均勻性測量儀技術指標

（1）測試範圍：≤300mm；　　 　（2）測量重複性：　　　σ_PV≤0.005λ σ_rms≤0.001λ； （3）最大允許誤差　　　Δ_PV≤0.05λ Δ_rms≤0.01λ。 [1] 

光學材料均勻性測量儀主要功能

用於測量光學材料均勻性。 [1] 
參考資料