複製鏈接
請複製以下鏈接發送給好友
https://baike.baidu.hk/item/光刻系統/55452429
複製
複製成功

光刻系統

鎖定
光刻系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2005年10月1日啓用。
中文名
光刻系統
產    地
德國
學科領域
電子與通信技術
啓用日期
2005年10月1日
所屬類別
工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體集成電路工藝實驗設備

目錄

  1. 1 技術指標
  2. 2 主要功能

光刻系統技術指標

用於半導體器件的光刻工藝。精度為1微米。是各種高性能半導體光電子和微電子器件製備所必須的工藝設備。 [1] 

光刻系統主要功能

光刻。 [1] 
參考資料