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低壓化學氣相沉積
鎖定
低壓化學氣相沉積是2011年公佈的材料科學技術名詞。
- 中文名稱
- 低壓化學氣相沉積
- 英文名稱
- low pressure chemical vapor deposition，LP-CVD
- 定 義
- 在低於一個大氣壓的條件下進行的化學氣相沉積。
- 應用學科
- 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），半導體材料製備（三級學科）
以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公佈
低壓化學氣相沉積定義
在低於一個大氣壓的條件下進行的化學氣相沉積。
低壓化學氣相沉積出處
《材料科學技術名詞》。
- 參考資料
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- 1. 材料科學技術名詞 ．術語在線[引用日期2022-12-29]
