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二極濺射

鎖定
二極濺射，由膜料製成的濺射靶材為陰極，工件為陽極構成真空鍍膜室內的兩電極，通電通氣後利用氣體的輝光放電、等離子體技術進行鍍膜的方法。 [1] 
中文名
二極濺射
定    義
鍍膜方法
參考資料